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    G-43E4型高精密單面光刻機

    設備概述: 本設備是我公司根據市場需求研發的產品,其突出的特點是曝光面積大,通常情況下為Φ4",對被光刻基片的外形、厚度…

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    設備概述:

     本設備是我公司根據市場需求研發的產品,其突出的特點是曝光面積大,通常情況下為Φ4",對被光刻基片的外形、厚度要求較低,可對多種材料的基片進行光刻,它特別適用一次光刻的產品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等,按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺,承片臺都能實現“真空密著”曝光,加之光均勻性好(Φ100mm范圍內≤±3%),所以大大提高光刻質量。

    主要構成
    主要由防震工作臺、高均勻性4"蠅眼曝光頭、氣動系統、電氣控制系統、真空管路系統、直聯式真空泵及附件箱等組成。

     

    主要功能特點

    1.適用于5mm以下的各種基片)的一次曝光。

    2.本設備配置有可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構;具

    3. 操作簡便

    4. 設備運行穩定、可靠

    5. 特設功能

    主要技術參數:

    1、曝光面積:Φ4",配置4"蠅眼專用曝光頭

    2、實現“真空密著”曝光,(通過調整真空度能實現硬接觸、軟接觸或微力接觸曝光)。但基片厚度≤2mm。

    3、曝光*小分辨率為2μm。

    4、可以為用戶制作具有預定位機構的專用承片臺,片對版的預定位精度≤±0.1mm。

    5、曝光頭用燈為<span style="font-size:16px;line-height:150%;font-family:;" "="">GCQ350Z型高壓水銀直流汞,光強≤10mw/cm2,光的不均勻性在Φ100mm范圍內≤±3%,可以通過調節曝光頭光柵來改變光強。


    【全文完】

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